R05200 Fiche de tantale

R05200 Fiche de tantale
Présentation du produit:
Nom du produit: plaque de tantalum pur
Pureté: 99,95%
Surface: surface de polissage
Densité: 16,6 g / cm3
Taille: 0,1 ~ 20 mm thk x 300 ~ 800 mm x 1000 ~ 2000 mm
Application: four à haute température, équipement chimique
Marque: TIHRJ
Type d'expédition: DHL / FedEx / UPS
Certificats: ISO 9001: 2015 / EN 10204 3.1 MTC / EN 10204 3.2 MTC
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Description
Paramètres techniques

Avantages de R05200 Tantalum Plate

 

R05200 est un matériau de tantale pur (UNS R05200) qui répond à la norme ASTM B708 ​​et offre les avantages de base suivants:

1. Excellente résistance à la corrosion

Il a d'excellentes performances dans les acides à haute température et forts (tels que l'acide chlorhydrique, l'acide sulfurique, l'acide nitrique) et les environnements de chlorure, et sa résistance à la corrosion dépasse celle du titane et du hastelloy .

Résistant à la corrosion Aqua Regia, adaptée aux environnements chimiques extrêmes (E . G . Évaporateurs d'acide sulfurique concentrés) .

 

2. biocompatibilité

ISO 10993 certifié, non toxique, non allergène, largement utilisé dans les implants orthopédiques (e . g . osseux, plaques de réparation du crâne) .

 

3. stabilité à haute température

Avec un point de fusion de 2996 degrés, il peut être utilisé pendant longtemps à 600 degrés et peut résister à un environnement plasma de 2000 degrés (e . g . doublure de buse de fusée) pendant une courte période .

 

4. Excellentes propriétés physiques

Haute conductivité thermique (57 . 5 W / m · k) et conductivité électrique (résistivité 13,5 μΩ · cm) pour les condensateurs de haute puissance.

Un faible coefficient d'expansion thermique (6 . 5 × 10⁻⁶ / k) assure une stabilité dimensionnelle dans des environnements à haute température.

 

5. Adaptabilité du traitement

L'allongement allant jusqu'à 25% après le roulement à froid permet d'embarquer complexe (e . g . les doublures des réacteurs à parois minces) .

 

Technologie de traitement de R05200 Tantalum Plate

 

1. formage à froid

Rolling: roulement à froid multi-pass (déformation inférieur ou égal à 30% par passe), recuit intermédiaire (1000-1200 degré / vide) .

Embouillage: L'espace de matrice est contrôlé à 5-8% de l'épaisseur de la plaque pour éviter la fissuration du bord .

 

2. Soudage

Soudage par faisceau d'électrons: environnement sous vide (inférieur ou égal à 1 × 10⁻³ PA), densité de puissance 3 × 10⁴ avec un rapport d'aspect jusqu'à 20: 1.

Soudage TIG: pureté d'argon supérieure ou égale à 99 . 999%, la protection de l'argon est requise à l'arrière, et les composants de correspondance R05200 sont utilisés pour les fils de soudage.

 

3. Traitement thermique

Recyclage de recristallisation: 1200 degrés × 1h (vide inférieur ou égal à 5 ​​× 10⁻³ PA), contrôle de la taille des grains ASTM Grade 6-8.

 

4. usinage

Outils: carbure enduit de diamant avec angle de râteau 10-15 degré et angle arrière 6-8 degré .

Paramètres: vitesse linéaire inférieure ou égale à 30 m / min, alimentation 0.05-0.1 mm / r, refroidissement par émulsion (pH neutre) .

 

R05200 Tantalum Plate de demande et cas de candidature typiques

 

Champs d'application

Application spécifique

Exigences de performance

Spécifications de cas

 

Équipement chimique

Doublure du réacteur, tube du condenseur

160 degrés de résistance à la corrosion d'acide culfurique concentré

Thk 3mmx2000 × 1000 mm

Industrie de l'électronique

Anode de condensateur de capacité spécifique élevé

Rugosité de surface PR inférieure ou égale à 0,2 μm

Feuille de tantalum de 0,1 mm, capacité 100, 000 μf / g

Implantation médicale

Plaque de réparation du crâne, stent vasculaire

ASTM F560

THK 1,5 mm, 30% de porosité poreuse structure

Industrie aérospatiale

Doublure de la gorge de la buse de fusée, composants de contrôle thermique satellite

Résistance à haute température instantanée à 3000 degrés

Structure composite de revêtement C103, Thk 5 mm

Équipement de vide

Cible de pulvérisation, chauffage à fournaise monocristalline

Pureté supérieure ou égale à 99,95%, taille de grain inférieure ou égale à 50 μm

Φ300 mm cible, 16,6 g / cm³

 

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